四甲基二硅氧烷，最近被證明在將半縮減為相應的方面非常有用。這已應用于成功合成具有重要藥學(xué)意義的格列凈家族糖尿病 2 特異性葡萄糖轉運 2 （SGLT2） 抑制劑藥物，例如卡格列凈 （Invokana） 和達格列凈 （Farxiga） 等。6TMDS也被證明可以非常有效地將硝基芳基還原為苯胺7在生產(chǎn)齊拉西酮的關(guān)鍵中間體時(shí)，在將酮還原為亞甲基方面，是對三乙基硅烷的改進(jìn)。

其他屬性：水解敏感與水性堿發(fā)生反應。

應用：

用于醛類(lèi)和環(huán)氧化物的還原鹵化反應。
2.用于將二茂鐵硅烷、聚烯烴嵌段共聚物連接成穩定的圓柱形。
3.用于在其他可還原基團存在下將酰胺高產(chǎn)率還原為胺。
4.將苯甲醚還原為芳烴。
5.氫化硅烷化末端炔烴形成能夠與芳基和乙烯基鹵化物交叉偶聯(lián)的烯基硅烷。
6.用于在合成齊拉西酮時(shí)將苯乙酮衍生物還原為亞甲基。

烯基硅烷交聯(lián)劑:

交叉偶聯(lián)反應是形成碳-碳鍵的一種非常有用的方法。它涉及兩種試劑，一種通常是合適的有機金屬試劑（親核試劑），另一種是合適的有機底物，通常是不飽和鹵化物、甲苯磺酸鹽或類(lèi)似物（親電試劑）。

ALD材料:

原子層沉積 （ALD） 是一種化學(xué)自限性沉積技術(shù)，它基于連續使用氣態(tài)化學(xué)過(guò)程。薄膜（每個(gè)周期細至 -0.1 ?）是通過(guò)根據需要多次重復沉積序列以達到一定厚度而產(chǎn)生的。薄膜的主要特點(diǎn)是產(chǎn)生的保形性和可控的沉積方式。前驅體的選擇是原子層沉積工藝的關(guān)鍵，即找到具有足夠反應性以產(chǎn)生所需薄膜的分子，同時(shí)又足夠穩定以處理并安全地輸送到反應室。

硅氧烷基硅烷還原劑:

有機硅烷是類(lèi)碳氫化合物，具有作為離子和自由基還原劑的能力。與許多其他還原劑相比，這些試劑及其反應副產(chǎn)物更安全，更易于處理和處置。與鋁基、硼基和其他金屬基氫化物相比，硅的金屬性質(zhì)及其相對于氫的低電負性導致 Si-H 鍵極化，產(chǎn)生氫化氫和更溫和的還原劑。硅基還原劑手冊的表1總結了一些關(guān)鍵的硅烷還原。

1,1,3,3-四甲基二硅氧烷;1,1-二氫-1,1,3,3-四甲基二硅氧烷;TMDO;TMDS頜骨:

      1.粘度，20 °C： 0.56 cSt

      2.ΔH梳： 4,383 千焦/摩爾

      3.ΔH醫 管 局。： 30.3 kJ/摩爾

      4.蒸氣壓，27 °C： 194.8 mm

      5.將芳香醛還原為鹵化芐

      6.用于醛類(lèi)和環(huán)氧化物的還原鹵化反應

      7.用于將二茂鐵硅烷、聚烯烴嵌段共聚物連接成穩定的圓柱形

      8.用于氫化物封端有機硅聚合的封端機

      9.有機還原劑

      10.用于在其他可還原基團存在下將酰胺高產(chǎn)率還原為胺

      11.將苯甲醚還原為芳烴

      12.氫化硅烷化末端炔烴，形成能夠與芳基和乙烯基鹵化物交叉偶聯(lián)的烯基硅烷